WITEC快關閥75232-CE44-0006

快速關閉閥門的主要要求是在出現空氣涌入的情況下能夠快速可靠地做出反應。由于泄漏導致 UHV 或 XHV 環境的損失，尤其是在加速器或儲存環等大容量環境中，可能會導致污染方面的重大問題，以及恢復所需真空水平所需的努力。

75.2 UHV 快速關閉閥系列可在壓力升高時通過快速關閉反應保護真空度。該系列在 10 毫秒以下（取決于閥門直徑）以很快的速度關閉真空管路。關閉后，閥門密封 < E-9 mbarl/s。由于任何毫秒都可以防止損壞程度，因此 75.2 設定了保護基準。

75.2 設計為閘閥 (DN 40)，采用氣動驅動。標準烘烤溫度高。閥體max. 200°C執行器為 50°C。閥蓋采用金屬密封，閘門密封采用 FKM，焊接金屬波紋管密封饋通。

快速關閉閥由單獨的控制器控制。控制器通過定期檢查系統、傳感器及其連接的就緒狀態來確保快速關閉時間。該控制器是模塊化的，可以針對不同的閥門/傳感器布置進行配置。快速關閉閥的狀態也由控制器提供遠程輸出。反之亦然，閥門可以通過控制器上的接口進行遠程控制。

75.2 UHV 快速關閉閥系列已經在各種工藝條件下的加速器和儲存環設施中得到證明，已成為可靠的 UHV 和 XHV 系統保護的標準。

毫秒級緊急響應：在檢測到真空泄漏或壓力異常時，閥門可在10毫秒內（具體時間取決于閥門直徑）完成關閉，防止真空環境被破壞。

ultra-high密封性：關閉后泄漏率低于<1×10?? mbar·L/s，滿足半導體制造、粒子加速器等對真空純度要求高的場景。

系統保護基準：通過快速隔離真空管路，避免污染擴散和設備損壞，成為行業公認的真空系統保護標準。

加速器和儲存環設施：75.2系列已在全球多地加速器設施中長期運行，證明其能在惡劣工藝條件下穩定工作。

免維護設計：初次維護前標準開關次數達2000次，實際使用中近乎免維護，降低長期擁有成本。

輻射抗性：閥體輻射抗性達10? Gy，閘門密封件抗性10? Gy（可選10? Gy），適應核聚變裝置等強輻射環境。

半導體制造：在刻蝕、離子注入、PVD/CVD等工藝中，快速隔離反應腔，防止污染氣體擴散至真空傳輸系統。

同步輻射光源與粒子加速器：維持ultra-high真空環境（≤10?? mbar），避免外界氣體干擾實驗精度。

真空滅菌與凍干設備：快速關閉防止細菌侵入，保障產品無菌安全。

太陽能電池鍍膜：如PERC、HJT技術依賴穩定真空，閥門需響應異常壓力波動。