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ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS

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ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS

品　　牌：ALPhANOV
型　　號：D-LMS
技術資料： ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS
閱讀次數：1857

產品介紹

用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個平臺，允許獨立聚焦和掃描兩個激光點，用于集成電路的評估。雙點注射工藝的理想選擇，它提供了所有空間和時間的靈活性，可以通過背面分析電路

性能特點

集成電路評估雙激光站(均通過顯微鏡點)

背面激光故障注入的理想選擇

具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸

兩個激光光斑都具有完全獨立的時間和空間調制

通過數百米的硅來觀察集成電路路徑上的激光點的照相機

高再現性和高分辨率激光光斑位移

包括三個阿爾法諾夫激光模塊

可選功能與配件

光學鏡頭技術

光電發射套件

熱激光刺激套件

通過CE認證的激光外殼完成自動設置

高分辨率目標

技術參數

單模光纖激光器

	PDM+/PDM+ HP	PDM4+ and PDM4+ HP
脈沖持續時間	從1.5納秒到連續波	從1.5納秒到連續波
峰值功率	高達3.2瓦	高達10瓦
波長	980納米；1064牛米	980納米；1064牛米
重復率	從單發到250兆赫	從單發到250兆赫
命令接口	TTL/LVTTL /軟件& dlls	TTL/LVTTL /軟件& dlls
光束質量	單模	單模

InGaAs 紅外相機

Captor	640x512 µm
動態量程	140 dB
接口	USB(包含軟件)

電學

電壓	220 V/110 V
電流	16 A

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